Institut FEMTO-ST - Université Bourgogne Franche-Comté
L'Institut FEMTO-ST (UMR6174, classé A+, www.femto-st.fr) est l'un des plus grands et des plus importants laboratoires français dans les sciences pour l'ingénieur à échelles micro et nano (environ 700 personnes). Dans l'ensemble, la recherche à FEMTO-ST se concentre sur les systèmes micro- et nanométriques (basés principalement sur les matériaux électroactifs) et sur le développement de nouvelles technologies dans de nombreux domaines allant de la physique fondamentale, en passant par l’acoustique ou l'optique pour des applications dans l’énergie, la médecine ou le développement industriel. L'institut a mis en place une politique axée sur le développement de partenariats avec des organismes publiques et privés. Il est aussi en charge du Laboratoire Temps Fréquence de Besançon (LTFB) en association avec le Laboratoire National de métrologie et d'Essais (LNE). L'institut coordonne de nombreuses actions nationales et internationales dans le cadre de divers projets (projets européens, programmes internationaux, ANR, contrats avec la DGA, le CNES et des projets industriels). FEMTO-ST apporte son soutien aux projets de recherche dans des tâches reliées à l'administration, la communication, l'électronique, la mécanique et l'informatique. La plateforme technologique MIMENTO de FEMTO-ST, consacrée à la micro et nano-fabrication est l'une des plus grandes salles blanches en France (réseau RTB). FEMTO-ST et la plateforme MIMENTO sont reconnus pour leur excellence scientifique et technologique dans le domaine des dispositifs micro-acoustiques (SAW) et des matériaux piézoélectriques comme le LiNbO3.
CEA-Leti
Le LETI est dirigé par la Direction de la Recherche Technologique du CEA. Son objectif est d'aider les entreprises à améliorer leur compétitivité par l'innovation technologique et le transfert de son savoir-faire technique à l'industrie. Le LETI dispose d'une salle blanche de plus de 10,000 m² (équipé à hauteur de 160 M€) au sein de laquelle le pôle microélectronique Si 200-300 mm et la plateforme MEMS Si fonctionnent 24/7. Le CEA dirige également, en collaboration avec les laboratoires du Campus Minatec (réseau RENATEC), une salle blanche de recherche précurseure de 500 m² (Plateforme de Technologie Amont, ou PTA) pour le traitement des wafers de 100 mm (4") de tous types de matériaux.
Institut des Nanotechnologies de Lyon
L'INL, hôte de la plateforme technologique NanoLyon, s'est imposé sur la scène internationale comme un des laboratoires pionnier et leader dans le domaine de la croissance de systèmes combinant oxydes cristallins et semi-conducteurs (particulièrement l’intégration des oxydes pérovskites sur Si et GaAs, ou l'épitaxie d'InP et de GaAs sur Si). L'INL a participé à de nombreux projets dans ce domaine, notamment deux projets Européens en cours sur l’intégration d'oxydes pour la récupération d'énergie (projet « TIPS », en collaboration avec l'ILM et le CETHIL) et la photonique intégrée (projet « SITOGA »). L'INL dispose d'outils adaptés à la croissance épitaxiale, en particulier une machine de dépôt MBE unique qui combine, sous ultra-vide, un réacteur dédié aux III-V, un réacteur dédié à la croissance d'oxydes (actuellement pour la croissance de Si) et un XPS. Le réacteur MBE oxyde est un prototype développé dans le cadre d'un laboratoire commun entre RIBER et l'INL qui comprend les tout derniers équipements pour le contrôle de la croissance des oxydes. L'INL dispose aussi de nombreuses installations dédiées à la caractérisation structurelle et fonctionnelle, et notamment un diffractomètre Rigaku Smartlab sur lequel est monté une cellule en température. Il dispose aussi d'une large gamme d’équipement de caractérisation électrique : C-V, I-V, P-E, mesures PUND et Effet Hall, ainsi qu'une sonde AixACCT polyvalente. Et pour finir, l'INL a mis au point plusieurs microscopes de dernière génération pour les mesures PFM et c-AFM.
www.annealsys.com
Annealsys
Basé à Montpellier, France, Annealsys développe et assemble des bâtis de RTP et de DLI-CVD / DLI-ALD adaptés à la recherche dans différents domaines, et notamment : Silicon et semi-conducteurs composés, nanotechnologies, verres, MEMS, cellules photovoltaïques etc. Annealsys met à disposition des laboratoires et de ses clients industriels, des solutions dédiées à la petite/moyenne production pour le recuit Rapid Thermal Processing, et les dépôts de type Chemical Vapor Deposition. L'entreprise est impliquée dans de nombreux projets nationaux et européens, comme par exemple le projet « RIF – Innovative & Functional Coatings for Plastics » qui vise à démontrer la possibilité industrielle des procédés d'injection d'organométalliques (MO-CVD), ou encore le projet « DIMENSION » qui se concentre sur la croissance, la caractérisation et l'établissement de futurs applications aux matériaux 2D, et notamment les Dichalcogénures de métaux de transitions (TMDs).